Použité waferovací stroje 11

Waferovací stroj KRONES Part of KRONES labelling station X （LS X）

Rok: 2016

Část Etiketovací stanice KRONES X （LS X））, POUŽITÁ

Waferovací stroj Disco DFD 641 Dicing Saw

Rok: 2000

Kostková pila DISco DFD 641 Repasovaný stav, Prodávám v dobrém funkčním stavu

Waferovací stroj Applied Materials PRODUCER SE

Rok: 2002

Stav nástroje Běžící destičky Velikost plátku 300 mm Fab sekce tenký film Popis majetku Výrobce SE mainframe a 3 komory Verze softwaru B3.9_56 CIM SECS, GEM Proces BD i, BD i, BDIIx Konfigurace hardwaru (fab): Hlavní výrobce systému SE - 1 Handler System 2 roboty FI a 1 robot MF - 3 Tovární rozhraní FOUP - 2 Konfigurace hardwaru (subfab …

Waferovací stroj Hitachi RS-6000

Rok: 2014

Hitachi (Semiconductor) RS-6000 SEM – Kontrola defektů (DR) Aktuálně konfigurováno pro velikost plátku 300 mm Datum MFG: 25. července-14 PODROBNOSTI VYBAVENÍ: Model: RS6000E s doplňky Funkce iPQ A-1 Hlavní systém RS6000E VR25 (Použití 300mm Wafer, AC208V/60Hz) včetně: - 2 držáky destiček (pro 300 mm) - Funkce ADR (Auto Defect Review). - 3 druhy systému získávání obrazu - SE/Left/Right Image - …

Waferovací stroj KLA WaferSight

Rok: 2005

Charakterizace oplatky Metrologické vybavení Aktuálně konfigurováno pro: 300 mm Asset HDD není součástí dodávky Charakteristika waferu WAFS001 KLAT TVAR WAFERSITE/PLOCHOST Stav: Nástroj byl vypnut a přesunut do úložiště na místě. Konfigurace: Audit pro ověření. Standardní konfigurace systému Oboustranné interferometrické měřidlo rovinnosti a tvaru Semi M49 režim Režim emulace 2mm kapacitní sondy Kapacitní tloušťkoměr s návazností blok automatického masteringu Automatizace plátků …

Waferovací stroj Rigaku MFM310

Rok:

Rigaku MFM310 Rentgenová odrazivost (XRR) Aktuálně konfigurováno pro velikost plátku 300 mm PODROBNOSTI VYBAVENÍ: 1. Automatický robotický systém pro manipulaci s destičkami s 200 mm a 300 mm manipulací s destičkami schopnost a předběžné zarovnání plátků. 2. Dva 300mm FOUP porty se čtečkami FOUP ID a ovládacím softwarem. 3. Generátor rentgenového záření a modul svazku Cu COLORS pro měření XRR …

Waferovací stroj Canon fpa-1550m4w

Rok: 1995

Canon fpa-1550m4w 1995 Velikost oplatky 6

Waferovací stroj Hitachi Kokusai Electric VR-120S

Rok: 2000

Hitachi Kokusai Electric VR-120S 2000 Velikost oplatky 12

Waferovací stroj Applied Microstructures Inc MVD 100

Rok:

APLIKOVANÉ MIKROSTRUKTURY INC MVD 100 MVD 100 je užitečný nástroj pro nanášení monovrstev organosilanů. Lze jej použít k vytvoření vysoce hydrofobních povrchů, povrchů proti znečištění a biofunkčních povrchů. Seznam procesů nanášení monovrstvy používaných v systému lze nalézt na webové stránce nástroje. Obsluha systému je poměrně jednoduchá. Nástroj má reakční komoru a 3 potrubí pro přívod páry. Linka 1 je určena …

Waferovací stroj Dynatex DX-II

Rok:

Waferovací stroj Pws Pacific Western Systems P8AMS

Rok: